日本産業洗浄協議会（JICC）は，2019年9月4日（水）～6日（金）にパシフィコ横浜（横浜市西区）で開催される「2019洗浄総合展」（主催：日本洗浄技能開発協会，日本産業洗浄協議会，日刊工業新聞社）にて，9月5日（木）に「第23回JICC洗浄技術フォーラム2019～IoT，EV，5Gそしてスマートソサエティー時代の洗浄技術を考える～」を開催する。
同フォーラムでは，近藤 隆造 氏（シチズンファインデバイス）による招待講演「時計メーカーから総合精密加工メーカーへ」のほか，洗浄剤，洗浄装置メーカー5社による技術発表，また，1Fメインステージで行われる，泉谷 渉 氏（日本電子デバイス産業協会）による特別講演「激動の時代を迎えた電子デバイス産業の未来構図～半導体，電子部品，自動車部品の設備投資を最新リポート～」（特別講演は聴講無料）が行われる。同フォーラムの概要や申し込み，問い合わせ先は以下のとおり。
- 日時：2019年9月5日（木） 10：00～17：00
- 会場：パシフィコ横浜 アネックスホールF203・204会議室
※特別講演は1Fメインステージへ移動して聴講 - 定員：180名
- 申込締切日：2018年8月28日（水）
- 聴講料：会員 13,000円／人＋税，非会員 17,000円／人＋税（カラーテキスト代含む）
※テキストのみの申込み：特別価格1冊 7,000円＋税 - 申し込み方法：日本産業洗浄協議会ホームページから聴講申込用紙をダウンロードして必要事項を記入のうえ，E-mailに添付して送付
※期日が切迫してから申し込む場合，あらかじめ電話でご確認ください - プログラム
10：00～10：10 開会挨拶 甲斐 博泰 氏（日本産業洗浄協議会 会長，トクヤマMETEL）
10：10～10：50 【技術発表】「難しいフラックス洗浄に挑む MPC洗浄の有用性」 加納 裕也 氏（ゼストロンジャパン）
11：00～12：00 【特別講演】「激動の時代を迎えた電子デバイス産業の未来構図 ～半導体，電子部品，自動車部品の設備投資を最新リポート～」 泉谷 渉 氏（日本電子デバイス産業協会 副会長）
※1Fメインステージへ移動して聴講
13：00～13：50 【招待講演】「時計メーカーから総合精密加工メーカーへ」 近藤 隆造 氏（シチズンファインデバイス）
14：00～14：40 【技術発表】「洗浄専門業における洗浄装置・洗浄事例と品質管理」 本間 尚貴 氏（本間産業）
14：40～15：20 【技術発表】「水系洗浄機の液汚染度と付着油分の測定」 松村 繁廣 氏（森合精機）
15：30～16：10 【技術発表】「フッ素系洗浄機3機種『縦型ワンバス式FISTA』『プッシャー搬送式2槽式FISTA』『フッ素系多槽式省溶剤洗浄機』の紹介」 岡村 和彦 氏（クリンビー）
16：10～16：50 【技術発表】「次世代フッ素系溶剤AMOLEA® AS-300のご紹介」 花田 毅 氏（AGC 化学品カンパニー）
＜問い合わせ・申し込み先＞
日本産業洗浄協議会 事務局
TEL 03-5777-0791 FAX 03-5777-0675
E-mail sskjicc@jicc.org
http://www.jicc.org/event/forum.html （’19 7/17）
