2019年1月23日

「ASTEC 2019 第14回先端表面技術展」1/30~東京ビッグサイトで開催

アーステック
メンテナンス・レジリエンスTOKYO 2025
'25 7/23~25
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2019年1月30日(水)~2月1日(金)の3日間,東京ビッグサイト(東京都江東区)で,「ASTEC 2019 第14回先端表面技術展・会議~見る・積む・削る ナノレベルからの表面処理~」(主催:ASTEC実行委員会)が開催される。 同展では,トライボロジー特性を評価・分析する最先端の装置や表面処理加工技術・装置が一堂に展示。トライボロジーに関連する先端企業の専門家が集まり,オープンイノベーションの現状や課題,国際標準化への取り組み等について討議するパネルディスカッションや,最先端の表面処理テクノロジーや研究動向を紹介する「第14回表面技術会議」,「産学連携」をテーマにした企画展示,出展者によるプレゼンテーションなどが多数催される。 <パネルディスカッション「トライボロジーにおけるオープンイノベーションの課題と将来」> 同企画では,トライボロジーに関連する先端企業の専門家が集まり,佐々木 信也 氏(東京理科大学)のモデレータのもと,トライボロジー分野におけるオープンイノベーションの現状や課題,国際標準化への取り組み,トライボロジーの新たなビジネスモデルの構築等について討議する。参加費は無料でセミナー登録も不要(展示会入場時に来場登録が必要)。
    • 日時:2019年2月1日(金)10:30~12:15
    • 会場:ASTEC / SURTECHセミナー会場(東4ホール展示会場内)
    • 企画主催:潤滑通信社
    • 企画協力:ASTEC 実行委員会
【モデレータ】 佐々木 信也 氏(東京理科大学 工学部 機械工学科 教授) 【テーマ1:オープンイノベーションと標準化】(10:30~11:15) パネリスト企業:アントンパール・ジャパン,エリオニクス,東陽テクニカ,ナノテック,レスカ,産業技術総合研究所 【テーマ2:トライボロジーの新たなビジネスモデル】(11:30~12:15) パネリスト企業:協和界面科学,三洋貿易,新東科学,島貿易,トリニティーラボ <第14回表面技術会議> 1月30日(水)に「次世代自動車技術~ナノ計測・EV・全固体電池~」,31日(木)に「ライフサイエンス・ソフトマテリアルのための先端イメージング技術」のテーマで,2日間にわたり開催される。
    • 日時:2019年1月30日(水),31日(木)10:45~13:00
    • 会場:ASTEC/SURTECHセミナー会場(東4ホール展示会場内)
    • 参加費:3,000円(税込)/1テーマ(予稿集代含む) ※参加費は当日,会場にて現金で支払い
    • プログラム: 1月30日(水)【テーマ1】次世代自動車技術~ナノ計測・EV・全固体電池~ 10:45~11:30 「自動車用動力伝達技術研究組合(TRAMI)活動概要のご紹介」 白井 智也 氏(本田技術研究所),佐々木 信也 氏(東京理科大学) 11:30~12:15 「オペランド表界面ナノ計測技術の開発とエネルギーデバイスへの応用」 藤田 大介 氏(物質・材料機構(NIMS)) 12:15~13:00 「グラフェンスーパーキャパシター」 唐 捷 氏(物質・材料研究機構(NIMS))  1月31日(木)【テーマ2】ライフサイエンス・ソフトマテリアルのための先端イメージング技術 10:45~11:30 「決定的なAFM-IR技術 PiFM(光誘起力顕微鏡)で実現,真のナノスケール赤外分光技術の紹介」 小野寺 毅師 氏(日本レーザー) 11:30~12:15 「表面分析技術の医学・生物学応用~TOF-SIMSを用いた細胞内脂質分子分布の超解像度観察~」 瀬藤 光利 氏(国際マスイメージングセンター/浜松医科大学) 12:15~13:00 「X線位相画像技術」 百生 敦 氏(東北大学多元物質科学研究所/科学技術振興機構)
    • 第14回表面技術会議の聴講申込みや詳細は以下URLより http://nanotech2019.jcdbizmatch.jp/jp/Presentation/Info/Exhibitor?param=iHAXYczTgHs
<産学連携トライボロジーコーナー> 1月30日(水)~2月1日(金)の3日間,表面・界面技術に欠かせない「トライボロジー」の最新動向や先端技術をパネル展示する。同コーナーの出展企業は以下のとおり。 アントンパール・ジャパン/エリオニクス/協和界面科学/三洋貿易/島貿易/新東科学/東陽テクニカ/トリニティーラボ/ナノテック/レスカ
    • ASTEC2019開催概要
        • 名称:ASTEC2019 第14回先端表面技術展・会議
        • 会期:2019年1月30日(水)~2月1日(金)
        • 時間:10:00~17:00
        • 会場:東京ビッグサイト東4ホール/会議棟
        • 入場料:3,000円(税込) ※Webサイトでの事前登録者,招待状持参者は入場無料。以下のURLより事前登録できます https://jcd-event.smktg.jp/public/application/add/403?lang=ja
        • 主催:ASTEC実行委員会
      <同時開催展> SURTECH2019 表面技術要素展/nano tech 2019 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議/InterAqua 2019 第10回 国際水ソリューション総合展/Convertech Japan 2019/新機能性材料展 2019/3次元表面加飾技術展 2019/JFlex2019/先進印刷技術展2019/ENEX2019/Smart Energy Japan 2019/電力・ガス新ビジネスEXPO 2019/TCT Japan 2019
 
  • 問い合わせ先:ASTEC実行委員会事務局 TEL:03-5657-0757  FAX:03-5657-0645 ASTEC2019公式サイト https://www.astecexpo.jp  (’19 1/23)

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