2007年8月29日

スペクトリスPANalytical事業部,2種類のソフトウェアを発表

アーステック
メンテナンス・レジリエンスTOKYO 2025
'25 7/23~25
メンテナンス・レジリエンスTOKYO2025
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 スペクトリスPANalytical事業部は,化合物半導体エピタキシャル薄膜解析用XRDとX線反射率解析用XRRの2種類のソフトウェアを発表した。XRDの新バージョン4.2はパナリティカルのX’Pert PRO MRD,及び初期の高分解能X線回折装置と組み合わせて,半導体エピタキシャル層を更に精密,自動に解析することが可能になる。これにより,GaN系をはじめとする化合物半導体の開発,製造プロセスの最適化,自動化に大きく貢献する。XRRの新バージョン1.2は複数パラメータの最適化,フィッティングの自動化により,高度かつ簡便にパラメータを求めることが可能になった。これにより,半導体薄膜,磁性薄膜,表示デバイス系の材料開発,製造プロセスにて,膜圧,ラフネス,密度パラメータの標準化への活用が可能となる。(’07 8/29)

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