2024年10月9日

「2024洗浄総合展」開催される

アーステック

2024年9月18日(水)~20日(金)の3日間,東京ビッグサイト(東京都江東区)で「2024洗浄総合展」(主催:日本洗浄技能開発協会,日本産業洗浄協議会,日刊工業新聞社)が開催され,3日間合計で43,271名(同時開催展含む)が来場した。

同展は,日本唯一の産業洗浄に関する専門展示会で,本年は「Japan Robot Week 2024」「VACUUM 2024 真空展」「SAMPE Japan 先端材料技術展 2024」「スマートファクトリー Japan 2024 秋」「高精度・難加工技術展 2024」「表面改質展 2024」との同時開催で行われた。

生産現場の洗浄から金属加工や自動車,電子・精密部品まで多様な業種に合わせ,洗浄機器・システム・洗浄剤など産業洗浄に関する最新製品・技術が一堂に介し,NCH Japanがパーツ洗浄機「トレント」を,ENEOSサンエナジーが高機能炭化水素系洗浄剤「NSクリーン」を,クール・テックが高pHアルカリイオン水生成装置を,タイセイクリンケミカルが不燃性有機溶剤向け洗浄機「クリンベスト」(写真1)をそれぞれ展示した。会期初日に開催された「第10回JICC産業洗浄 洗浄ビジネスセミナー」では,2024産業洗浄優秀新製品賞を受賞した5社(アクア化学,日本車輌洗滌機,日伸精機,ファインマシーンカタオカ,コーベックス)の授賞式(写真2)と,和田 宇生 氏(みずほリサーチ&テクノロジーズ)による「産業用洗浄機の市場調査」,前野 純一 氏(荒川化学工業)による「リサイクルに求められる洗浄技術」,太田 志乃 氏(名城大学)による「EVシフトにおけるサプライチェーンの変化」の3件の講演,洗浄技術検定の紹介や名刺交換会が行われた。

クリンベスト(タイセイクリンケミカル)-2024洗浄総合展
写真1
2024産業洗浄優秀新製品賞授賞式-2024洗浄総合展
写真2

19日(木)には「JICC洗浄技術フォーラム2024」が開かれ,技術発表のほかに注目技術講演として後藤 嘉孝 氏(みずほリサーチ&テクノロジーズ)による「PFAS・米国,欧州,日本の動向2024」が行われた。

20日(金)には「2024洗浄総合展FBIAセミナー」が開催され,いずれも会場が満員となるなどセミナーも大盛況だった。

次回「2025洗浄総合展」は,2025年12月3日(水)~5日(金)の3日間,東京ビッグサイト 南ホールで開催される予定。(’24 10/9)

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