2010年10月20日

「第14回JICC洗浄技術フォーラム2010」,「2010洗浄総合展」で開催される

アーステック
メンテナンス・レジリエンスTOKYO 2025
'25 7/23~25
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 2010年10月14日,東京ビッグサイト会議棟(東京都江東区)で,日本産業洗浄協議会(JICC)主催の「第14回JICC洗浄技術フォーラム2010」が開催された。10月13日~15日まで東京ビッグサイトでは「2010洗浄総合展」が開かれ,これに併催されるフォーラムとして開催された。フォーラムでは,以下の内容の特別講演および技術発表が行われた。

<特別講演>
○「現場の特徴に基づくVOC排出抑制対策の導出システム」 菊池 康紀 氏(東京大学 大学院)
○「物理洗浄による洗浄剤削減の試み」 真田 俊之 氏(静岡大学)

<技術発表>
○「今,なぜ環境経営なのか?」 木越 義廣 氏(富士ゼロックス)
○「産業におけるフッ素系洗浄」 斉田 武彰 氏(新オオツカ)
○「アルカリ性電解水の生成と電解条件」 古口 塁 氏(アマノ・エコ・テクノロジー)
○「IPA置換乾燥や熱風乾燥に代わる精密水切り乾燥方式」 広野 勝範 氏(ソルベックス)
○「新しい超音波(測定・解析・制御)技術」 斉木 和幸 氏(超音波システム研究所)
○「水系洗浄システムにおける排水低減装置」 時田 康之 氏(エー・エス・ケー)
○「ハロゲンフリーはんだ対応洗浄システム」 前野 純一 氏(荒川化学工業)  (’10 10/20)

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