2010年10月14日，東京ビッグサイト会議棟（東京都江東区）で，日本産業洗浄協議会（JICC）主催の「第14回JICC洗浄技術フォーラム2010」が開催された。10月13日～15日まで東京ビッグサイトでは「2010洗浄総合展」が開かれ，これに併催されるフォーラムとして開催された。フォーラムでは，以下の内容の特別講演および技術発表が行われた。
＜特別講演＞
○「現場の特徴に基づくVOC排出抑制対策の導出システム」 菊池 康紀 氏（東京大学 大学院）
○「物理洗浄による洗浄剤削減の試み」 真田 俊之 氏（静岡大学）
＜技術発表＞
○「今，なぜ環境経営なのか？」 木越 義廣 氏（富士ゼロックス）
○「産業におけるフッ素系洗浄」 斉田 武彰 氏（新オオツカ）
○「アルカリ性電解水の生成と電解条件」 古口 塁 氏（アマノ・エコ・テクノロジー）
○「IPA置換乾燥や熱風乾燥に代わる精密水切り乾燥方式」 広野 勝範 氏（ソルベックス）
○「新しい超音波（測定・解析・制御）技術」 斉木 和幸 氏（超音波システム研究所）
○「水系洗浄システムにおける排水低減装置」 時田 康之 氏（エー・エス・ケー）
○「ハロゲンフリーはんだ対応洗浄システム」 前野 純一 氏（荒川化学工業） （’10 10/20）
