ADEKAは，千葉工場で建設中であったEUV（極端紫外線）フォトレジスト向け光酸発生剤の生産設備が竣工したと発表した。
同社グループでは，主力製品である半導体メモリ向け材料や，近年ニーズが高まっているロジック半導体向けの微細化に欠かせない先端材料の提供を通じて，情報・電子化学品の事業拡大を進めており，同設備の建設を進めていた。ロジック半導体向となる，先端リソグラフィ工程で使用されるフォトレジスト向け光酸発生剤「アデカアークルズ」シリーズは，光制御技術とメタル管理技術で販売が伸長している。竣工した同設備の生産能力は，従来の2倍以上となる。また，新たなプロセス技術を投入したほか，品質管理能力の向上により1ppb未満の低メタル管理を実現できるほか，次世代向け新製品を想定した生産設備も導入している。同設備は2023年8月より稼働予定。（’23 7/12）
