スペクトリスPANalytical事業部は，化合物半導体エピタキシャル薄膜解析用XRDとX線反射率解析用XRRの2種類のソフトウェアを発表した。XRDの新バージョン4.2はパナリティカルのX’Pert PRO MRD，及び初期の高分解能X線回折装置と組み合わせて，半導体エピタキシャル層を更に精密，自動に解析することが可能になる。これにより，GaN系をはじめとする化合物半導体の開発，製造プロセスの最適化，自動化に大きく貢献する。XRRの新バージョン1.2は複数パラメータの最適化，フィッティングの自動化により，高度かつ簡便にパラメータを求めることが可能になった。これにより，半導体薄膜，磁性薄膜，表示デバイス系の材料開発，製造プロセスにて，膜圧，ラフネス，密度パラメータの標準化への活用が可能となる。（’07 8/29）
砥粒加工学会 次世代固定砥粒加工プロセス専門委員会，第114回研究会を5/10に開催
砥粒加工学会 次世代固定砥粒加工プロセス専門委員会は，2024年5月10日（金），千葉工業大学津田沼キャンパス（対面：千葉県習志野市）とCisco Webex Meeting（Web）のハイブリッド形式で，第114回研究会「エネルギービーム加工による高精度・平滑化技術」を開催する。
