スペクトリスPANalytical事業部は,化合物半導体エピタキシャル薄膜解析用XRDとX線反射率解析用XRRの2種類のソフトウェアを発表した。XRDの新バージョン4.2はパナリティカルのX’Pert PRO MRD,及び初期の高分解能X線回折装置と組み合わせて,半導体エピタキシャル層を更に精密,自動に解析することが可能になる。これにより,GaN系をはじめとする化合物半導体の開発,製造プロセスの最適化,自動化に大きく貢献する。XRRの新バージョン1.2は複数パラメータの最適化,フィッティングの自動化により,高度かつ簡便にパラメータを求めることが可能になった。これにより,半導体薄膜,磁性薄膜,表示デバイス系の材料開発,製造プロセスにて,膜圧,ラフネス,密度パラメータの標準化への活用が可能となる。(’07 8/29)
NSKとNTN,2027年10月に経営統合
日本精工(NSK)とNTNは2026年5月12日(火),経営統合することについて基本合意したことを発表した。








