2018年8月29日

アントンパール・ジャパン,技術セミナーを9月28日に開催

アーステック
アントンパール・ジャパンは,2018年9月28日(金)に同社東京オフィスセミナールーム(東京都墨田区)にて技術セミナー「ガス吸着法による最新の細孔構造分析手法」と「レーザー回折および光散乱による粒子特性評価手法」を開催する。
同セミナーでは,細孔構造分析と粒度分布,ゼータ電位測定による物性分析の手法を座学を通し,その原理と応用について紹介する。セミナー概要,申込方法は以下の通り。

  • 日時:2018年9月28日(金) 13:30~17:30 受付は13:00開始予定
  • 場所:アントンパール・ジャパン 東京オフィス内 セミナールーム(東京都墨田区)
  • 参加料:無料
  • プログラム
    1.「ガス吸着法による最新の細孔構造分析手法」 森本 昌文 氏
    2.「レーザー回折及び光散乱法による粒子特性評価の紹介」 中野 祐樹 氏
    3.実機見学
  • 申込み方法:以下を明記の上,miharu.isaka[at]anton-paar.comまで
      • 社名
      • 氏名
      • E-mail
      • 住所
      • 電話番号
  • 申込締切:2018年9月18日(火) ※先着順
  • 技術セミナーの詳細はこちら(アントンパール・ジャパンWebサイト)

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